BK7光学玻璃化学机械抛光机理研究

摘要： 目的 探究BK7光学玻璃在化学机械抛光（Chemical mechanical polishing, CMP）过程中，相关因素对BK7光学玻璃抛光表面的材料去除率（MRR）、粗糙度（Ra）的影响规律，揭示BK7光学玻璃在二氧化铈（CeO₂）抛光液中的化学机械抛光机理，获得高效、低损伤的表面抛光质量。方法 采用单因素实验法进行CMP实验，比较不同抛光时间、抛光盘转速、CeO₂... （共15页）