含甲基丙烯酸羟乙酯的聚对羟基苯乙烯型光刻成膜树脂的合成及性能

高分子材料科学与工程页数： 9 2025-11-17

摘要：叔丁氧羰基保护的聚对羟基苯乙烯(PHS)因其良好的深紫外透过性、碱溶性和优异的抗干刻蚀能力,广泛应用于248nm光刻胶中。然而,其较低的玻璃化转变温度和较差的成膜性极大限制了光刻工艺窗口和光刻性能。文中以PHSt为聚合物链主体,引入刚性单体甲基丙烯酸-9-蒽甲酯和柔性单体甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)合成了一系列不同HEMA含量的共聚物,利用核磁共振氢谱(~1H-NMR)、傅里叶... （共9页）

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