二硫化钼墨水制备及其在直写墨水打印忆阻器中的应用

材料科学与工程学报页数： 8 2025-12-15

摘要：本研究表征了二硫化钼(MoS₂)墨水制备工艺对其黏度、表面张力、微观形貌及物相结构的影响，测试了利用MoS₂墨水并采用直写墨水打印(DIW)制备的水平结构两端型忆阻器的电学性能。研究结果表明：基于四庚基溴化铵(THAB)的剥离法制备的MoS₂墨水具有较低的黏度(4.82 cP)和表面张力(38.3 mN·m^-1),其微观结构为清晰的层状和松散的纳米片，物相结构为单层... （共8页）

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