金薄膜厚度对光电性能的调控机理与电磁屏蔽应用

红外与激光工程页数： 9 2026-01-25

摘要：针对金(Au)基透明电磁屏蔽材料应用中存在的成本与性能优化问题，系统探究了金薄膜厚度对其微观结构、光学特性及电学特性的调控机理，旨在确定实现优异综合性能的最佳厚度参数，并基于此开展金属网栅器件的设计与验证。采用磁控溅射技术制备了28～110 nm四个不同厚度的金薄膜样品，系统表征其微观结构、光学反射特性及电学性能。基于性能优化结果，设计并制备了金属网栅光学窗口，并对其电磁屏蔽效... （共9页）

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