Si₃N₄基HFCVD金刚石薄膜摩擦磨损性能及其机理研究

沈阳建筑大学学报(自然科学版) 页数： 10 2026-01-15

摘要：针对氮化硅陶瓷在干摩擦工况下摩擦系数高、耐磨性不足的问题，采用热丝化学气相沉积(HFCVD)技术在氮化硅基底上分别制备微米金刚石(MCD)薄膜、纳米金刚石(NCD)薄膜和微纳复合金刚石(MNCD)薄膜，以改善其摩擦学性能。通过扫描电子显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、X射线衍射和纳米压痕技术对不同HFCVD金刚石薄膜的表面形貌、微观结构和力学性能进行表征，并研究不同载荷下的摩擦磨... （共10页）

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