含碳化硅晶须的还原氧化石墨烯多孔电磁屏蔽薄膜及其多层结构（英文）

摘要： 轻质柔性的电磁屏蔽薄膜材料的开发具有重要的意义。本文报道了一种含碳化硅晶须的还原氧化石墨烯（SiC@RGO）多孔电磁屏蔽薄膜，其中氧化石墨烯的还原采用两步法，即HI化学还原，加固相微波处理。仅3s的固相微波处理便可高效还原氧化石墨烯，同时，快速释放的气体使薄膜厚度从约20μm增加至200μm，且薄膜获得多孔结构。当氧化石墨烯与碳化硅晶须的质量比为4∶1时，该薄膜的电磁屏蔽效能达... （共11页）