低温水浴制备BiVO₄光催化材料用于可见光降解RhB研究

摘要： N型半导体BiVO₄是降解有机污染物最具应用前景的可见光光催化材料之一.然而，纯BiVO₄由于光生电子-空穴对复合过快，载流子传输速率低等问题限制着其光催化能力.表面活性剂不仅可以调节BiVO₄的形貌和粒径大小，还可以通过增大比表面积来增多反应活性位点，以提高光催化活性.本研究以十二烷基硫酸钠(SDS)为表面活性剂，通过简单的一步水浴法制备出一系列不同摩尔比的SDS/Bi... （共11页）