EAST装置中TZM材料基底表面硅化镀膜特性研究

摘要： 文章研究了EAST聚变装置中，在离子回旋（ICRF）和直流辉光（GD）两种放电辅助下氘化硅烷与氦的混合气体（10%SiD4+90%He）在第一壁钛锆钼合金（Titanium-zirconium-molybdenum,TZM）表面硅化镀膜的特性。实验结果表明，相同工作功率的ICRF辅助硅化，烘烤温度更高比烘烤温度低的样件表面沉积的硅膜均匀光滑。这可能是由于样件表面烘烤温度越高，越...