高能电子束电磁透镜的研究进展

摘要： 在电子束加工设备中，聚焦系统和偏转系统是决定电子枪性能的关键因素。介绍了电子束聚焦、偏转技术的原理和特点，归纳整理了电磁透镜结构的优化结果、电子束聚焦规律以及减小束斑像差控制等方面所取得的研究进展。分析了目前电磁透镜控制电子束加工中存在的不足，并对未来电子枪发展趋势做出了展望。
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科技文献电子束;聚焦系统;偏转系统;电磁透镜;束斑像差