脉冲调制射频大气压SiH₄/He/O₂放电数值模拟研究

摘要： 大气压等离子体放电由于设备简单，生产成本低，一直被广泛用于二氧化硅薄膜沉积中。较其他形式的放电，大气压脉冲放电由于其稳定、高效等特点在近年来引起了人们的广泛关注。为了更深入了解其反应机理，本文利用二维流体力学模型对脉冲调制射频大气压SiH₄/He/O₂的放电过程进行了研究，重点关注了脉冲放电中占空比与调制频率对等离子体的影响。结果表明：在平均功率相同的条件下，占空比对薄膜的...
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科技文献脉冲调制;薄膜沉积;SiH_4/He/O_2放电;数值模拟