抛光垫及抛光液对固结磨料抛光氧化镓晶体的影响

金刚石与磨料磨具工程页数： 8 2022-12-20

摘要：氧化镓晶体具有高禁带宽度、耐高压、短吸收截止边等优点，是最具代表性的第四代半导体材料之一，具有广阔地应用前景。氧化镓晶体抛光过程易出现微裂纹、划痕等表面缺陷，难以实现高质量表面加工，无法满足相应器件的使用要求，且现有的氧化镓晶体抛光工艺复杂、效率低。固结磨料抛光技术具有磨粒分布及切深可控、磨粒利用率高等优点。采用固结磨料抛光氧化镓晶体，探究抛光垫基体硬度、磨料浓度和抛光液添加剂... （共8页）

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