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【日期】：2021-10-29 【关键词】：Zr-B-O-N薄膜;磁控溅射;基底偏压;微观结构;扩散阻挡性能 【摘要】：二硼化锆(ZrB2)薄膜因具有高熔点、低电阻率等特点，在硅基器件Cu互连工艺中具有广阔的应用前景。然而，沉积态ZrB2薄膜多呈现结晶态，其晶界会为Cu原子提供快速扩散通道，通过非金属元素(N或O)掺杂可以得到非晶结构的ZrB2薄膜，以提高其扩散阻挡性能。
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