2.4.1 气相沉积

1.化学气相沉积(CVD)化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,CVD)是利用空间气相反应在基材表面上沉积固态薄膜的工艺技术。化学气相沉积可根据气相反应的激发方式不同分为:热化学气相沉积(TCVD)、放电激发气相沉积(如等离子体PACVD)、辐射 ......（本文共 3174 字 , 3 张图）     [阅读本文] >>