所属栏目：平板显示释疑
非晶硅TFT使用CVD(化学气相沉积),简单理解就是把基板放入密封的反应室内向其输入反应气体,通过温度、等离子体、光(UV)、电场等对分解气体在不改变基板特性的情况下进行固态沉积。非晶硅成膜共分为以下4个阶段:(1)自由电子活性 ......（本文共 497 字 , 4 张图） [阅读本文] >>
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