1.5.1.1 连续化学气相沉积

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1.5.1.1 连续化学气相沉积

连续化学气相沉积(ContinuousChemicalVaporDeposition,ConCVD)概念接近于目前多数晶体硅太阳能电池生产线使用的在线式工艺,该工艺非常适合大规模生产。ConCVD概念基于连续输运晶片工艺,通过热反应区域发生外延沉积。为了提高气相Si到固相 ......（本文共 1363 字 , 3 张图）     [阅读本文]>>


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