ICPCVD低温生长非晶硅的工艺及光学特性研究

真空科学与技术学报页数： 7 2023-07-19

摘要：文章利用ICPCVD在100℃及以下玻璃和蓝宝石片衬底上生长非晶硅薄膜，并通过调节Ar和SiH4气体流量比例、射频功率及衬底温度等参数，实现低温下高质量非晶硅薄膜的生长。随后用拉曼光谱表征分析研究了衬底温度变化对非晶硅薄膜沉积质量的影响，并计算出衬底温度为100℃时，非晶硅薄膜的结晶分数和微晶尺寸分别为64.4%和4.7 nm。此外还研究了非晶硅薄膜折射率和透过率等光学特性，并...

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